சிலிகான் டெட்ராபுளோரைடு

கட்டற்ற கலைக்களஞ்சியமான விக்கிப்பீடியாவில் இருந்து.
Jump to navigation Jump to search
சிலிகான் டெட்ராபுளோரைடு
Silicon tetrafluoride
சிலிகான் டெட்ராபுளோரைடு
பெயர்கள்
ஐயூபிஏசி பெயர்s
டெட்ராபுளோரோசிலேன்
சிலிகான் டெட்ராபுளோரைடு
வேறு பெயர்கள்
சிலிகான் புளோரைடு
புளோரோ அமில காற்று
இனங்காட்டிகள்
7783-61-1 Yes check.svgY
யேமல் -3D படிமங்கள் Image
பப்கெம் 24556
வே.ந.வி.ப எண் VW2327000
UN number 1859
பண்புகள்
SiF4
வாய்ப்பாட்டு எடை 104.0791 g/mol
தோற்றம் நிறமற்ற வாாயு, காற்றில் புகைகிறது
அடர்த்தி 1.66 கி/செமீ3, திண்மம் (−95 °செ)
4.69 கி/லி (வாயு)
உருகுநிலை
கொதிநிலை −86 °C (−123 °F; 187 K)
சிதைவுறுகிறது
கட்டமைப்பு
மூலக்கூறு வடிவம்
இருமுனைத் திருப்புமை (Dipole moment) 0 D
தீங்குகள்
முதன்மையான தீநிகழ்தகவுகள் நச்சுத்தன்மை, அரிக்கும் தன்மை
பொருள் பாதுகாப்பு குறிப்பு தாள் ICSC 0576
Lethal dose or concentration (LD, LC):
69,220 மிகி/மீ3 (rat, 4 hr)[1]
தொடர்புடைய சேர்மங்கள்
ஏனைய எதிர் மின்னயனிகள் சிலிகான் டெட்ராகுளோரைடு
சிலிகான் டெட்ராபுரோமைடு
சிலிகான் டெட்ராஅயோடைடு
ஏனைய நேர் மின்அயனிகள் கார்பன் டெட்ராபுளோரைடு
செர்மானியம் டெட்ராபுளோரைடு
வெள்ளீய டெட்ராபுளோரைடு
காரீய டெட்ராபுளோரைடு
மாறுதலாக ஏதும் சொல்லவில்லை என்றால் கொடுக்கப்பட்ட தரவுகள் யாவும்
பொருள்கள் அவைகளின் இயல்பான வெப்ப அழுத்த நிலையில் (25°C, 100kPa) இருக்கும்.
 Yes check.svgY verify (இதுYes check.svgY/N?)
Infobox references

சிலிகான் டெட்ராபுளோரைடு அல்லது டெட்ராபுளோரோசிலேன் (Silicon tetrafluoride) SiF4 என்ற மூலக்கூறு வாய்பாட்டை உடைய வேதிச் சேர்மம் ஆகும். இந்த நான்முகி மூலக்கூறானது,  மிகக் குறைவான வெப்பநிலைக்குள் மட்டுமே திரவமாக இருக்கக்கூடிய தன்மைக்காக குறிப்பிடத்தக்கதாக உள்ளது. (இதனுடைய கொதிநிலையானது இதன் உருகுநிலையைக் காட்டிலும் 4 °C மட்டுமே கூடுதலானது. இச்சேர்மமானது 1812 ஆம் ஆண்டில் முதன் முதலில்  சான் டேவி என்ற வேதியியலாளரால் தொகுப்பு முறையில் தயாரிக்கப்பட்டது. [2]

தயாரிப்பு[தொகு]

SiF
4
ஆனது பாசுபேட் உரங்கள் தயாரிப்பில் கிடைக்கும் துணை விளைபொருளாகும்.  பாசுபேட்டு பாறைகளில் காணப்படும் மாசுப்பொருளான சிலிக்கேட்டுகளை புளோர்அபடைட்டின் புரோத்தான்பகுப்பினால் கிடைக்கக்கூடிய HF  தாக்கும் போது இது கிடைக்கிறது.  ஆய்வத்தில் BaSiF
6
சேர்மத்தை  300 °செ, வெப்பநிலைக்கு மேல் வெப்பப்படுத்தும் போது இத்திண்மமானது எளிதில் ஆவியாகக்கூடிய  SiF
4
ஐ வெளியிட்டு BaF
2
.ஐ வீழ்படிவாக விட்டுச்செல்கிறது.  இச்சேர்மத்தைத் தயாரிக்கத் தேவைப்படும் BaSiF
6
iஆனது எக்சாபுளோரோசிலிசிக் அமிலத்தின் நீரிய கரைசலை பேரியம் குளோரைடுடன் வினைப்படுத்தி தயாரிக்கப்படுகிறது. [3] இதே போன்ற மற்றுமொரு சேர்மமான GeF
4
இதே முறைகளைப் பயன்படுத்தி தயாரிக்கப்படுகிறது. வெப்பச்சிதைவு முறையில் வெப்பச்சிதைவுக்குத் தேவையான வெப்பநிலை 700 ° செல்சியசாக உள்ளது.[4] SiF
4
ஆனது சிலிகான் டை ஆக்சைடை ஐதரோபுளோரிக் அமிலத்தில் வைப்பதன் மூலமாகவும் தயாரிக்கப்படுகிறது. வினையானது பின்வரும் சமன்பாட்டின் படி நிகழ்கிறது.

4HF + SiO2 → SiF4 + 2H2O

பயன்கள்[தொகு]

எளிதில் ஆவியாகக்கூடிய இந்த சேர்மமானது நுண்மின்னணுவியலிலும் மற்றும் கரிமத்தொகுப்பு முறைகளிலும் மிகக் குறைந்த அளவே பயன்படுகிறது. [5]

கிடைக்கும் விதம்[தொகு]

எரிமலையின் வாயிலிருந்து வரும் புகைத்துகள்களில் சிலிகான் டெட்ராபுளோரைடு குறிப்பிடத்தக்க அளவில் கிடைக்கிறது. இந்த முறையில் தயாரிக்கப்படும் சேர்மத்தின் அளவு நாளொன்றுக்கு பல டன்கள் ஆக உள்ளது. [6] சிலிகான் டெட்ராபுளோரைடானது பகுதியளவு நீராற்பகுப்பு அடைந்து எக்சாபுளோரோசிலிசிக் அமிலத்தை உருவாக்குகிறது.

மேற்கோள்கள்[தொகு]

  1. "Fluorides (as F)". Immediately Dangerous to Life and Health. National Institute for Occupational Safety and Health (NIOSH).
  2. John Davy (1812). "An Account of Some Experiments on Different Combinations of Fluoric Acid". பிலசாபிக்கல் மாகசீன் ஆவ் த ராயல் சொசையிட்டி 102: 352–369. doi:10.1098/rstl.1812.0020. ISSN 0261-0523. 
  3. Hoffman, C. J.; Gutowsky, H. S. "Silicon Tetrafluoride" Inorganic Syntheses McGraw-Hill: New York, Volume 4, pages 145-6, 1953.
  4. Hoffman, C. J.; Gutowsky, H. S. "Germanium Tetrafluoride" Inorganic Syntheses McGraw-Hill: New York, Volume 4, pages 147-8, 1953.
  5. Shimizu, M. "Silicon(IV) Fluoride" Encyclopedia of Reagents for Organic Synthesis, 2001 John Wiley & Sons. எஆசு:10.1002/047084289X.rs011
  6. T. Mori; M. Sato; Y. Shimoike; K. Notsu (2002). "High SiF4/HF ratio detected in Satsuma-Iwojima volcano's plume by remote FT-IR observation". Earth Planets Space 54: 249–256. http://www.terrapub.co.jp/journals/EPS/pdf/2002/5403/54030249.pdf.